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二氧化硅拋光液的使用方法與成分

納米二氧化硅拋光液的拋光進程是在拋光機上實現的,如上圖所示,在拋光進程中拋光墊和工件相對做旋轉運動,拋光液(磨料)在旋轉的拋光墊與工件之間流動,在一定壓力、溫度和轉速效果下,發作化學機械拋光進程-簡稱CMP(Chemical Mechanical Polishing),因而拋光進程是在化學的和機械的歸納效果下,使工件表面平整化(拋光)。

拋光液-氧化硅拋光液-佛山科凝新材料科技有限公司

 在拋光進程中,拋光液的主要效果是:①拋光效果,經過研磨、腐蝕、吸附反應物來實現;②光滑效果;③冷卻降溫效果;④沖刷排渣效果。


拋光液的成分


①納米SiO2拋光液是由均勻分散的納米膠粒組成的乳白色膠體,呈堿性,pH= 9-11。


②納米SiO2拋光液的主要成分:主要成分是硅溶膠,還添加有pH調節劑、表面活性劑、氧化劑、穩定劑等。
 
③納米SiO2拋光液的理想效果:在使用過程中保持穩定的膠體狀態,均勻分散(不團聚),有穩定的腐蝕速率。











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